EV Group schließt Bau von hochmodernem Reinraumgebäude ab

EV Group (EVG), Entwickler und Hersteller von Anlagen für Waferbonding- und Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie, Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie, gab die Fertigstellung des neuen, „Cleanroom V“ genannten Reinraumgebäudes am Firmenhauptsitz in Österreich bekannt.

Mit dem Neubau auf dem aktuellsten Stand der Entwicklung und Technologie im Reinraumbau wird die verfügbare Reinraumkapazität zur Produkt- und Prozessentwicklung, Anlagendemonstration, Musterentwicklung und für Pilotserien-Produktionsservices am EVG Headquarter nahezu verdoppelt. Als Teil eines im letzten Jahr angekündigten 30-Millionen-Euro-Investments wird das „Cleanroom V“-Gebäude offiziell im August eröffnet.

(Bild: EV Group)

Das neue Reinraum V-Gebäude ist direkt mit den bestehenden Reinraum- und Anwendungslabors von EVG verbunden und bietet rund 620 Quadratmeter zusätzliche Reinraumfläche der Reinheitsklasse 10. Das neue Gebäude beherbergt darüber hinaus auch ein modernes Schulungs- und Trainingszentrum mit mehreren speziell ausgestatteten Bereichen für die Schulung von Kunden und Service-Ingenieuren auf den Equipment-Plattformen von EVG. Im Rahmen der Investition in die Erweiterung wurde auch die bestehende Infrastruktur der Reinräume und Anwendungslabors aufgerüstet, einschließlich der Schaffung redundanter Systeme zur Sicherstellung höchster Verfügbarkeit und aktuellster Sicherheitsstandards.

Die zusätzlichen Kapazitäten, die durch das neue Reinraum V-Gebäude entstehen, erweitern die Möglichkeiten der beiden Kompetenzzentren, EVGs „NILPhotonics®“ und „Heterogeneous Integration Competence Center™,“ welche Dienstleistungen zur Prozessentwicklung auf höchstem Niveau bereitstellen und als bewährte Open-Access-Innovationsinkubatoren für die Kunden und Partner in der gesamten Mikroelektronik-Lieferkette dienen. Mit diesen Technologie-Kompetenzzentren unterstützt EVG seine Kunden bei der Beschleunigung der Technologieentwicklung, der Risikominimierung und der Entwicklung bahnbrechender Technologien und Produkten durch den Einsatz von Nanoimprint-Lithographieverfahren bzw. der heterogenen Integration, während gleichzeitig höchste IP-Schutzstandards für die Arbeit an Prototypen und Vorserienprodukten garantiert werden.

„Wir sind sehr stolz auf die technischen Innovationen und das Know-how, die in den Bau dieses neuen Reinraums eingeflossen sind. Die Einrichtung auf weltweit höchstem Niveau entspricht bis ins kleinste Detail dem neuesten Stand der Technik und befindet sich zweifellos auf Augenhöhe mit den technisch fortschrittlichsten Reinräumen in Europa“, erklärte Markus Wimplinger, Corporate Technology Development & IP Director von EV Group. „Für EVG wird dieses neue Gebäude unsere Fähigkeiten, gemeinsam mit unseren Kunden künftige Anwendungen und Technologien zu entwickeln, weiter verbessern. Insbesondere bieten sich auch optimale Rahmenbedingungen für unsere beiden stark nachgefragten und ausgelasteten Kompetenzzentren. Die einzigartigen Dienstleistungen, die in unseren Kompetenzzentren für NILPhotonics und heterogene Integration angeboten werden, ermöglichen es unseren Kunden und Partnern, die Entwicklungszyklen zu verkürzen und neuartige Produkte in diesen entscheidenden und zukunftsweisenden Anwendungsbereichen zu erschaffen.“

evgroup.com

 

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