Schichtdickenanalyse auf kleinsten Komponenten

Hitachi High-Tech Analytical Science stellt mit dem FT160 ein RFA-Gerät mit drei Basiskonfigurationsoptionen zur Analyse von Beschichtungen im Nanometerbereich vor.

(Quelle: Hitachi)

Die neue Generation von Schichtdickenanalysegeräten wurde entwickelt, um den Herausforderungen der Messung ultradünner Beschichtungen auf kleinsten Komponenten gerecht zu werden. Die Lösung ist ein RFA-Tischgerät (energiedispersive Röntgenfluoreszenz), bstehend aus Soft- und Hardware, die nach offiziellen Angaben für einen hohen Probendurchsatz und qualitativ hochwertige Ergebnisse sorgen.

Die Serie wurde entwickelt, um eine Schlüsselrolle bei der Qualitätskontrolle in der Produktion zu spielen und ist in der Lage, ein breites Anwendungsspektrum auf dem Markt für Halbleiter-, Leiterplatten- und Elektronikkomponenten zu messen.

Das Gerät verfügt über Highend-Komponenten zur Analyse ultradünner Beschichtungen auf feinen Strukturen. Eine Polykapillaroptik fokussiert den Röntgenstrahl auf einen Durchmesser von 30 µm, wodurch die Probe intensiver angeregt wird und Merkmale gemessen werden, die kleiner sind als dies mit herkömmlichen Kollimatoren möglich ist.

Ein hochsensibler Hightech-Silizium-Driftdetektor (SDD) nutzt die Optik zur Messung von Beschichtungen auf Mikroelektronik und Halbleitern im nm-Maßstab aus. Ein präziser Probentisch und eine hochauflösende Kamera mit digitalem Zoom ermöglichen eine schnelle Positionierung der Probenstrukturen, um den Probendurchsatz zu verbessern.

hitachi-hightech.com

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